石英坩堝可在1450度以下運用，分通明和不通明兩種。用電弧法制的半通明石英坩堝是拉制大直徑單晶硅，發展大規模集成電路必不可少的基礎材料。當今，國際半導體工業發達國家已用此坩堝取代了小的通明石英坩堝。他具有高純度、耐溫性強、尺寸大精度高、保溫性好、節約能源、質量安穩等長處。

     不能和HF觸摸，高溫時，極易和苛性堿及堿金屬的碳酸鹽效果。

    石英坩堝適于用K2S2O7，KHSO4作熔劑熔融樣品和用Na2S207(先在212度烘干)作熔劑處理樣品。

    石英質脆，易破，運用時要注意。

    除HF外，

    一般稀無機酸可用作清洗液。國內常用拉制單晶硅用石英坩堝18英寸和20英寸22英寸也有廠家運用22及以上的坩堝。目前國內坩堝出產大廠家出產的坩堝技能都比較老練。其出產運用質料石英砂由美國進口和挪威高純石英砂兩種。也有小廠運用國產料其質料出產的石英坩堝對拉制單晶硅時其安穩性都有必定影響。

     目前坩堝出產涂層技能已被大多數廠家運用就是在一般石英砂溶制的坩堝外表涂上一層二氧化鋇溶液使其形成細密層，其細密層能阻撓單晶硅高溫拉制過程中硅與石英坩堝反應提高成晶率。

     以上小編給大家講述的石英坩堝可在1450度以下運用，但是不能超過1450度以上運用，希望可以幫助大家了解使用它，需要咨詢的可以聯系我們。